Sapwaturrahman Lolos ke Final Kejuaraan Atletik Asia 2019

Alet lompat jauh andalan Indonesia Sapwaturrahman melaju ke final Kejuaraan Atletik Asia 2019 di Doha, Qatar, Selasa. Dalam babak kualifiksi ia melakukan lompatan sejauh 7.72 meter.

Catatan lompatan tersebut merupakan hasil terbaik ditorehkan Sapwaturrahman pada babak kualifikasi. Upaya lain pelompat jauh peringkat 78 dunia itu hanya membukukan jarak yang lebih pendek dengan selisih 4 sentimeter.

“Seperti biasanya, masalah di awalan, tapi saya akan perbaiki sedikit kesalahan yang tadi. Insya Allah final besok bisa lebih maksimal,” kata Sapwaturrahman melalui pesan singkat, Selasa malam.

Pria kelahiran 13 Mei 1994 itu sempat berada pada performa terbaik menjelang babak kualifikasi, namun irama berlari masih dirasa kurang stabil.

Sapwaturrahman juga akan berupaya mengatur emosi dengan berpikir positif untuk tidak hanyut dalam atmosfer pertandingan final.

Sapwaturrahman melihat Kejuaraan Atletik Asia 2019 ini sama pentingnya dengan Asian Games 2018.

“Ini pertandingan bisa dibilang selevel dengan Asian Games. Saya lebih ngatasin perasaan ke sesuatu yang positif agar lebih tenang seperti latihan,” katanya.

Pelatih lompat jauh Arya Yuniawan Purwoko mengaku kurang puas dengan penampilan anak asuhnya pada babak kualifikasi.

Cuaca dingin di kawasan arena pertandingan menjadi salah satu faktor pemicu kurang maksimalnya penampilan Sapwaturrahman.

“Semua lagi kurang bagus. Alhamdulillah kondisi sekarang tetap terjaga. Adaptasi cuaca agak susah karena dingin,” ujarnya.

Pada babak kualifikasi kejuaraan atletik ini, pelompat yang berhasil menorehkan jarak terjauh adalah Hasioka Yuki asal Jepang dengan jarak lompatan 7.81 meter.

Pelompat lain yang membukukan jarak lebih baik dari Sapwaturrahman adalah Huang Chang Zhou asal Cina yang jarak lompatannya 7.78 meter.

 

 

 

 

Sumber : tempo.co
Gambar : JawaPos.com

 

 

 

[social_warfare buttons=”Facebook,Pinterest,LinkedIn,Twitter,Total”]

 

BAGIKAN BERITA INI

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *